Inductively coupled plasma

Inductively coupled plasma (ICP) คือพลาสมาชนิดหนึ่งที่ได้รับพลังงานจากกระแสไฟฟ้า ซึ่งสร้างขึ้นจากการเหนี่ยวนำแม่เหล็กไฟฟ้า

อุณหภูมิของพลาสมาอาจมีค่าตั้งแต่ 6 000 K จนถึง 10 000 K ซึ่งเทียบเท่ากับอุณหภูมิพื้นผิวของดวงอาทิตย์ ICP ที่ปลดปล่อยออกมาจึงมีความหนาแน่นอิเล็กตรอนสูงมาก ในระดับ 10¹⁵ cm⁻³ เราสามารถนำ ICP ไปประยุกต์ใช้ได้หลายแบบในงานที่ต้องใช้พลาสมาความหนาแน่นสูง

• Inductively coupled plasma atomic emission spectroscopy หรือ ICP-AES เป็นสเปกโตรสโกปีของการปลดปล่อยอะตอม
• Inductively coupled plasma mass spectrometry หรือ ICP-MS : เป็นแมสสเปกโตรเมทรีชนิดหนึ่ง
• Reactive-ion etching หรือ ICP-RIE

อ้างอิง

1. A. Montaser and D. W. Golightly, eds. Inductively Coupled Plasmas in Analytical Atomic Spectrometry, VCH Publishers, Inc., New York, 1992.

แหล่งข้อมูลอื่น

• Inductively Coupled Plasma by Traci Bradford and M. Nicole Cook 2008-09-21 ที่ เวย์แบ็กแมชชีน